据报道，俄罗斯称自己正在研发光刻机，最快会在2024年有成果。按照俄罗斯工业和贸易部副部长的说法，2024年该国将开始生产350nm光刻机，2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机设备。俄罗斯表示，目前全球只有两家公司生产此类设备——日本尼康和荷兰ASML，而他们要改变这个格局。此前，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种国产光刻复合体，可用于蚀刻生产无掩模芯片。