推荐
快报
广场
科股宝VIP
视频
直播
媒体
企服
创投
咨询
活动
钛空时间
集团时光
公众号
清朗网络行动
写稿
视频投稿
App下载
ENGLISH
钛媒体
链得得
钛空时间
消研所
钛媒体创投家
品牌服务
专家服务
政府服务
创业者服务
融资需求
申请报道
项目数据库
投资者服务
创投家CLUB投资机构库
机构数据库
行研报告
钛媒体
链得得
ITValue
钛空时间
消研所
钛极客
资讯
科股宝
PRO
视频
直播
FM
消息称三星电子3nm、2nm良率分别超60%、40% 正与外部客户展开性能评估
2025.05.13 15:01
微信扫码
13
9
钛媒体App 5月13日消息,据韩国朝鲜日报,三星电子基于GAA晶体管结构的3nm和2nm节点良率分别超过了60%和40%,在工艺良率有起色的背景下三星正努力争夺先进制程订单。三星晶圆代工预计将很快进入
英伟达
GPU和
高通
移动端AP项目对2nm工艺性能评估的最后阶段。 (科创板日报)
US
英伟达
US
高通
互联网
新科技
新电子
本文内容仅供参考,不构成投资建议,请谨慎对待。
评论
0
/ 300
根据《网络安全法》实名制要求,请绑定手机号后发表评论
登录
请
登录
后输入评论内容
投资日历
更多
根据《网络安全法》实名制要求,请绑定手机号后发表评论