三井化学将量产光刻薄膜新品,支持阿斯麦新机

钛媒体App 6月18日消息,日本三井化学日前宣布,将开始量产半导体最尖端光刻机的零部件产品(保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代产品),计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线,计划年产能力为5000张,生产线预计于2025年12月完工。可支持荷兰阿斯麦(ASML)将推出的下一代光刻机。
阿斯麦

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