【科股一线拆解】国家安全部官微再提科技安全,GPU“四小龙”IPO迎新进展

在集成电路制造过程中,光刻工艺的费用约占制造成本的1/3左右,耗费时间占比约为 40%-50%。

(1)根据SEMI及中商产业研究院数据显示,2024年全球半导体设备销售额为1090亿美元,其中光刻机市场占比最高达24%,并且随芯片制程迭代,这一占比还在持续提高;

(2)2025年,哈尔滨工业大学官宣了成功研制出13.5nm波长的极紫外光刻光源,这是光源技术上备受瞩目的一项突破。中科院上海光机所成功研发了全固态深紫外光源系统,使得中国芯片工艺推进至3纳米理论极限;

(3)2024年工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》中将国产KrF及ArF光刻机明确列入,标志着我国在DUV光刻机已取得明确进展。

(4)GPU“四小龙”中的摩尔线程IPO辅导状态变更为辅导验收,沐曦集成完成了上市辅导,高端半导体封装测试重要企业盛合晶微辅导状态变更为辅导验收,芯密科技、兆芯集成、上海超导IPO获受理。

全文解读如下:

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