钛媒体App 9月18日消息，工信部近日公布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》，其中包含氟化氪光刻机和氟化氩光刻机；信息显示，氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻精度≤25nm；氟化氩光刻机光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm。据了解，按套刻精度与量产工艺 1:3 的关系，氟化氩光刻机大概可以量产 28nm 工艺的芯片。截至18日午间收盘，光刻机概念活跃，同飞股份、波长光电20cm涨停。